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Esta tecnologia vai reduzir significativamente o tamanho dos transistores nos chips. A startup norueguesa Lace Lithography recebeu US$40 milhões em investimentos.

Homem com jaleco branco usando impressora 3D em laboratório com tablet ao lado.

A startup norueguesa trabalha com litografia baseada em átomos de hélio

Segundo a Reuters, a startup norueguesa Lace Lithography, que conta com apoio da Microsoft, captou US$ 40 milhões em mais uma rodada de financiamento. A empresa está desenvolvendo um equipamento para fabricar microchips que, em vez de usar luz, emprega um feixe de átomos de hélio para gravar padrões em wafers de silício.

De acordo com informações divulgadas pela própria Lace Lithography, essa tecnologia pode produzir estruturas de circuitos integrados com dimensões 10 vezes menores do que as obtidas pelos sistemas de litografia atuais. O feixe teria apenas 0,1 nm de largura, enquanto os scanners EUV da ASML operam com comprimento de onda de 13,5 nm.

Apesar do avanço, o projeto ainda está longe de uma versão final. Ainda assim, a companhia afirma que pretende colocar um protótipo de testes em operação em uma linha-piloto até 2029.

O principal trunfo desse método é que os átomos não estão sujeitos ao limite de difração - ao contrário da litografia baseada em fótons, que é a base das soluções da ASML. Com isso, a proposta é reduzir transistores e outros componentes em uma ordem de grandeza.

A empresa chama suas plataformas de BEUV (Beyond-EUV). A Lace Lithography foi fundada em 2023 pela física Bodil Holst.

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