Essa tecnologia permitirá diminuir consideravelmente o tamanho dos transistores nos chips. A startup norueguesa Lace Lithography recebeu US$ 40 milhões em investimentos.

Start-up aposta em litografia com átomos de hélio

A norueguesa Lace Lithography, apoiada pela Microsoft, levantou 40 milhões de dólares em uma nova rodada de financiamento, segundo a Reuters. A empresa está desenvolvendo uma ferramenta para fabricação de chips que usa um feixe de átomos de hélio, e não luz, para desenhar padrões em wafers de silício.

De acordo com dados da própria Lace Lithography, essa tecnologia permite criar elementos de chip 10 vezes menores do que os obtidos pelos sistemas de litografia atuais. A largura do feixe é de apenas 0,1 nm, enquanto os scanners EUV da ASML operam com comprimento de onda de 13,5 nm.

Embora o desenvolvimento ainda esteja longe da fase final, a empresa afirma que pretende colocar um protótipo em produção-piloto até 2029.

A principal vantagem dessa abordagem é que átomos não estão sujeitos ao limite de difração, ao contrário da litografia fotônica usada pela ASML. Isso deve permitir reduzir transistores e outros componentes em uma ordem de grandeza.

A própria empresa chama seus sistemas de BEUV (Beyond-EUV). Ela foi fundada em 2023 pela física Bodil Holst.